专利简介

基于近场光的纳米尺度成像系统、三维成像方法和装置

简介
本文提供一种基于近场光的纳米尺度成像系统、三维成像方法和装置，其中成像系统包括光场图像获取单元，光场图像获取单元包括顺次连接的介电质微球透镜、物镜、主透镜、微透镜阵列和CCD相机，介电质微球透镜用于将待观测样本放大至纳米尺度，微透镜阵列用于把光线聚焦到CCD相机的每个像素上以使CCD相机拍摄得到待观测样本的光场图像；用于提供光源的照明单元；用于确定介电质微球透镜与待观测样本之间的相对位置的介电质微球透镜定位单元。本文提供的成像系统将介电质微球透镜与微透镜阵列相结合，使得将突破了光学成像衍射极限的近场光学成像与用于三维重建的光场成像相结合，实现了对样本的超分辨的三维成像。

简介

本文提供一种基于近场光的纳米尺度成像系统、三维成像方法和装置，其中成像系统包括光场图像获取单元，光场图像获取单元包括顺次连接的介电质微球透镜、物镜、主透镜、微透镜阵列和CCD相机，介电质微球透镜用于将待观测样本放大至纳米尺度，微透镜阵列用于把光线聚焦到CCD相机的每个像素上以使CCD相机拍摄得到待观测样本的光场图像；用于提供光源的照明单元；用于确定介电质微球透镜与待观测样本之间的相对位置的介电质微球透镜定位单元。本文提供的成像系统将介电质微球透镜与微透镜阵列相结合，使得将突破了光学成像衍射极限的近场光学成像与用于三维重建的光场成像相结合，实现了对样本的超分辨的三维成像。